猎户座 3100S 系统: 完善的空气分子污染（AMC）监测

实时监测空气分子污染（AMC）对于半导体生产过程极为重要。

快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。

深紫外光刻工艺特别关注氨、胺类、N-甲基吡咯烷酮NMP、酸类等浓度测量，当这些气体与化学放大光刻胶反生反应时，将深深的影响半导体器件质量。

传统古老的方法多采用间接测量分析方法。包括撞击滤尘器、离子色谱、化学荧光法，这些方法分析速度太慢，操作过程太复杂，昂贵并且测量结果不*。

DUKE采用被证明的CEAS（腔增强吸收光谱）技术解决AMC（空气分子污染物）监测难题，可快速测量痕量级NH3、HCL、HF，采用脉冲荧光法测量SO2，采用增强型GC-FID测量VOCs。

猎户座 3100S系列空气分子污染物监测系统测量痕量级NH3、HCL、HF并集成了uVOC-CAM特性，是半导体行业洁净室AMC（空气分子污染）测量的有力工具。

猎户座 3100S也集成了多点监测系统，可依序将气体抽送到分析仪或传感器，并读出测量结果。猎户座 3100S内嵌的报警、报告、分析软件是由多年半导体行业经验的工程师集体开发。

猎户座 3100S使用Ethernet、RS485/RS232或4-20mA模拟模块可以输出来自4~6台分析仪或传感器的数据。

每台分析仪配有内置计算机（Linux OS），可进行数据存储和数据输出，还支持远程网络控制，通过互联网可以连接DUKE公司总部或者当地经销商服务商，进行操作或者诊断。

使用者可以通过网络浏览器比如IE、Chrome等*任意可以联网的地方进行操作，远程操作可实现多级管理权限控制和操作。

关键词：洁净室Ma/Mb、NH3/HF/HCL、洁净间微量气体监测